驗證與服務
奈米級濾心攔截效率測試服務 (Filter Efficiency Challenge Test) - 金奈米/PSL/SiO2 標準粒子驗證
產品編號: filter-testing-particle-retention-tests|濾效驗證
專業的濾心過濾效能驗證服務。提供 5nm 至 60nm 等級的金奈米粒子 (AuNP)、聚苯乙烯微球 (PSL) 與二氧化矽 (SiO2) 挑戰測試。透過高靈敏度偵測技術，精準計算濾心截留效率 (Retention Efficiency) 與 Log Reduction Value (LRV)，協助半導體與濾材廠定義真實過濾等級。
- 提供 5nm 至 60nm 等級金奈米粒子 (AuNP) 挑戰測試
- 支援聚苯乙烯微球 (PSL) 與二氧化矽 (SiO2) 標準粒子
- 高靈敏度偵測技術精準量化上下游粒子濃度
- 計算截留效率 (Retention Efficiency) 與 LRV
- 協助定義濾心真實過濾等級而非標稱值
- 適用半導體與濾材廠的客觀第三方驗證
應用場景
半導體濕製程濾心過濾等級驗證
濾材廠新品開發與規格確認
奈米級截留效率與 LRV 比對
金奈米/PSL/SiO2 挑戰測試委託
超純水與化學品濾心效能查核
常見問題
可以測試哪些挑戰粒子？
本服務提供 5nm 至 60nm 等級的金奈米粒子 (AuNP)、聚苯乙烯微球 (PSL) 與二氧化矽 (SiO2) 三大類標準粒子。可依您的濾心標稱孔徑與目標製程選擇合適粒徑，以對應真實的攔截需求。
報告會提供哪些數據？
報告以高靈敏度偵測技術量測濾心上下游粒子濃度，計算出截留效率 (Retention Efficiency) 與 Log Reduction Value (LRV)，協助您客觀判斷濾心真實過濾等級，作為規格定義與選型依據。
這項測試適合哪些客戶？
主要服務半導體濕製程使用單位與濾材製造廠。半導體廠可驗證濾心是否符合製程要求，濾材廠則可用於新品開發與規格確認，取得客觀的第三方效能數據。