摺疊濾心
半導體級 Nylon 66 摺疊濾芯
產品編號: semi-grade-nylon66-cartridge-filter|Semi-grade Nylon66
專為 SEMI-Photo 光刻工藝設計的高效能濾芯。採用天然親水性 Nylon 66 濾膜，提供 2nm 至 0.1µm 的奈米級精度。具備優異的有機潔淨度與低金屬析出，能有效攔截光阻膠與溶劑中的細微顆粒，確保黃光製程的良率與穩定性。
- 天然親水性 Nylon 66 濾膜,適合光刻製程
- 2nm 至 0.1µm 奈米級精度,攔截極細顆粒
- 優異有機潔淨度,降低有機汙染風險
- 低金屬析出,保障黃光製程純淨度
- 有效攔截光阻膠與溶劑中的細微顆粒
- 確保黃光製程良率與穩定性
應用場景
半導體黃光微影 (SEMI-Photo) 製程
光阻膠 (Photoresist) 過濾
光刻溶劑過濾
奈米級顆粒攔截
先進製程良率控管
常見問題
為何黃光製程選 Nylon 66?
本產品專為 SEMI-Photo 光刻設計,天然親水性 Nylon 66 濾膜具優異有機潔淨度與低金屬析出,能有效攔截光阻膠與溶劑中的細微顆粒,提供 2nm 起的奈米級精度,直接守護黃光製程良率與穩定性。
2nm 精度能解決什麼問題?
2nm 至 0.1µm 的奈米級精度可攔截光阻液與溶劑中極細的顆粒與膠體,這些缺陷在先進製程中會造成圖案缺陷與良率損失。高精度過濾有助維持光阻品質一致,提升微影解析度與成品率。
有機潔淨度為何對光刻重要?
光阻與溶劑對有機汙染極敏感,任何溶出的有機物都可能干擾顯影與圖案轉移。本濾芯強調優異有機潔淨度與低金屬析出,可降低二次汙染風險,是黃光製程的關鍵選型考量。