摺疊濾心
半導體級 UPE 摺疊濾芯
產品編號: semi-grade-upe-cartridge-filter|Semi-grade UPE
專為半導體黃光微影製程 (SEMI-Photo) 設計的旗艦級 UPE 濾芯。採用疏水性超高分子量聚乙烯 (UPE) 濾膜，提供 2nm 至 0.2µm 的廣泛精度。具備極低的金屬與有機析出物特性，能有效攔截光阻液中的軟質膠體 (Gels) 與微粒，確保先進製程良率。
- 疏水性超高分子量聚乙烯 (UPE) 濾膜
- 2nm 至 0.2µm 廣泛精度,涵蓋多種製程需求
- 極低金屬析出物,保障製程純淨度
- 極低有機析出物,降低有機汙染風險
- 有效攔截光阻液中軟質膠體 (Gels) 與微粒
- 旗艦等級設計,確保先進製程良率
應用場景
半導體黃光微影 (SEMI-Photo) 製程
光阻液 (Photoresist) 過濾
軟質膠體 (Gels) 攔截
先進製程微粒控制
高純度溶劑過濾
常見問題
UPE 與 Nylon 66 怎麼選?
兩者皆為黃光製程設計。UPE 為疏水性超高分子量聚乙烯,具極低金屬與有機析出,擅長攔截光阻液中的軟質膠體 (Gels) 與微粒;Nylon 66 為天然親水性。應依光阻配方潤濕特性與目標缺陷類型選型,建議洽詢技術團隊。
為何強調攔截軟質膠體?
光阻液中的軟質膠體與微粒是造成先進製程圖案缺陷與良率損失的主因。UPE 濾膜能有效攔截這些難以去除的軟性 Gels,搭配 2nm 起的精度,直接提升光刻品質與晶圓良率。
UPE 濾芯能提供多廣的精度?
本產品提供 2nm 至 0.2µm 的廣泛精度範圍,可涵蓋從最嚴苛的先進製程到較一般的高純度溶劑過濾需求。請依目標顆粒尺寸、光阻黏度與流量需求,由技術團隊協助選定最適精度。