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半導體級 PP CMP 終端濾心

半導體級 PP CMP 終端濾心

產品編號: semi-grade-pp-cmp-pou-filter|CMP POU

專為空間受限的先進 CMP 製程設計的 POU 濾芯。採用全聚丙烯 (PP) 材質與拋棄式囊式結構,具備體積小、成本低與更換安全的優勢。能有效去除 Slurry 中的團聚顆粒與膠體,同時保留有效研磨粒子,維持粒徑分佈 (PSD) 不變,防止晶圓刮傷。

  • 專為空間受限的先進 CMP 製程設計的 POU 濾心
  • 全聚丙烯 (PP) 材質與拋棄式囊式結構
  • 體積小、成本低、更換安全
  • 有效去除 Slurry 中的團聚顆粒與膠體
  • 保留有效研磨粒子,維持粒徑分佈 (PSD) 不變防刮傷
先進 CMP 製程終端 (POU) 過濾
空間受限的 CMP 機台
去除 Slurry 團聚顆粒與膠體
防止晶圓刮傷
POU 終端濾心有什麼優勢?
採用拋棄式囊式結構,體積小、成本低且更換安全,特別適合空間受限的先進 CMP 機台作為終端 (Point-of-Use) 過濾使用。
會不會把有效研磨粒子也濾掉?
不會。濾心能去除 Slurry 中的團聚顆粒與膠體,同時保留有效研磨粒子,維持粒徑分佈 (PSD) 不變,避免影響研磨效果並防止晶圓刮傷。
材質是什麼?
採用全聚丙烯 (PP) 材質製成的拋棄式囊式濾心,化學相容性佳,且體積小、成本低、更換安全,適合空間受限的 CMP 終端 (POU) 過濾應用。