深層式濾心
半導體級 PP 深層式濾芯
產品編號: semi-grade-pp-depth-filter|Semi-grade PP
專為半導體化學機械研磨 (CMP) 製程設計的高階 PP 深層濾心。採用獨特 3D 梯度結構與奈米纖維技術，能精準攔截造成刮傷的團聚大顆粒 (Agglomerates)，同時讓有效研磨粒子通過，維持 Slurry 粒徑分佈不變。提供 70nm 至 1.0µm 精度，是優化 CMP 良率與降低成本的最佳方案。
- 獨特 3D 梯度結構搭配奈米纖維技術
- 精準攔截造成刮傷的團聚大顆粒 (Agglomerates)
- 讓有效研磨粒子通過，維持 Slurry 粒徑分佈不變
- 70nm 至 1.0µm 精度範圍
- 專為 CMP 製程優化良率與降低成本設計
應用場景
半導體化學機械研磨 (CMP) 製程
CMP Slurry 過濾
去除造成刮傷的團聚大顆粒
維持研磨液粒徑分佈
常見問題
這款深層濾心適用什麼製程？
專為半導體化學機械研磨 (CMP) 製程設計，用於 CMP Slurry 的精密過濾，攔截造成晶圓刮傷的團聚大顆粒，同時讓有效研磨粒子通過。
過濾後會改變 Slurry 粒徑分佈嗎？
不會。濾心採用 3D 梯度結構與奈米纖維技術，只攔截團聚的大顆粒 (Agglomerates)，有效研磨粒子可順利通過，維持 Slurry 粒徑分佈不變。
提供哪些過濾精度？
提供 70nm 至 1.0µm 的精度範圍，可依 CMP 製程的研磨液特性與良率需求選擇對應等級。